作為國內(nèi)最大最先進的晶圓代工廠，中芯國際SMIC在疫情疫情期間依然沒有停產(chǎn)，同時還在擴大14nm等先進工藝產(chǎn)能。日前羊城晚報報道稱，中芯國際進口的荷蘭ASML光刻機順利入廠。報道沒有提及中芯國際購買的光刻機的詳情，不過肯定可以排除最新的EUV光刻機，現(xiàn)在進口的應(yīng)該還是193nm波長的DUV系列光刻機。
光刻機對中芯國際等國內(nèi)廠商來說，為什么如此重要？進口一臺光刻機為什么如此引人注目？原因在于光刻機在芯片制造中異常重要，同時制造業(yè)具有很高難度，一直處于產(chǎn)業(yè)鏈風(fēng)口浪尖的位置。光刻機單價是極高的。由于光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺價值量。目前最先進的EUV設(shè)備在2018年單臺平均售價高達1.04億歐元,較2017年單臺平均售價增長4%。
光刻技術(shù)指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理,將電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝技術(shù),光刻機是光刻工序中的一種投影曝光系統(tǒng)。其包括光源、光學(xué)鏡片、對準系統(tǒng)等。在制造過程中,通過投射光束,穿過掩膜板和光學(xué)鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠,經(jīng)過顯影后可以將電路圖最終轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。
目前市場上主要的光刻機供應(yīng)商有荷蘭的ASML、日本的NIKON和CANON，以及中國大陸的上海微電子裝備(SMEE)。上海微電子是國內(nèi)光刻機領(lǐng)軍者，其IC前道光刻機可以實現(xiàn)90nm制程，未來有望逐步實現(xiàn)技術(shù)突破。光刻機采購節(jié)奏是內(nèi)資產(chǎn)線資本支出的關(guān)鍵信號。內(nèi)資產(chǎn)線一般會優(yōu)先采購價值量和技術(shù)難度最高的光刻機。內(nèi)資產(chǎn)線在19Q4至今光刻機合計采購量可觀，預(yù)示2020年內(nèi)資產(chǎn)線資本支出將進一步提升。
FPD產(chǎn)能向大陸轉(zhuǎn)移，本土廠商切入FPD光刻機市場。國內(nèi)FPD產(chǎn)能全球占比持續(xù)提升，預(yù)計2020年將提高至52％。尼康、佳能基本壟斷了FPD光刻機市場，目前國內(nèi)廠商上微4.5代TFT投影光刻機已經(jīng)進入產(chǎn)線，未來將進一步發(fā)展6代及6代以產(chǎn)品，切入主流廠商供應(yīng)。
壟斷高端光刻機市場的ASML是一家荷蘭公司，荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography，目前該全稱已經(jīng)不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾。
這是一家總部設(shè)在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一，向全球復(fù)雜集成電路生產(chǎn)企業(yè)提供領(lǐng)先的綜合性關(guān)鍵設(shè)備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。2019年10月，位列2019福布斯全球數(shù)字經(jīng)濟100強榜第50名。
最先進的7nm制程的EUV光刻機只有ASML一家公司可以生產(chǎn)，再無第二家，如果想要生產(chǎn)最先進的芯片，就必須要和它合作。高端光刻機市場已經(jīng)完完全全被ASML壟斷。
從光刻機總體出貨量來看(含非IC前道光刻機),目前全球光刻機出貨量99%集中在ASML,尼康和佳能。其中ASML份額最高,達到67.3%,且壟斷了高端EUV光刻機市場。ASML技術(shù)先進離不開高投入,其研發(fā)費用率始終維持在15%-20%,遠高于Nikon和Canon。
Canon早已在很多年前便放棄了在高端光刻機上的競爭，目前產(chǎn)品主要集中在面板等領(lǐng)域。目前他們還在銷售的集成電路光刻設(shè)備在指標標上只相當于ASML的低端產(chǎn)品PAS5500系列。
Nikon作為世界上僅有的三家能夠制造商用光刻機的公司之一，似乎在這個領(lǐng)域不被許多普通人知道，許多人只知道Nikon的相機做的好，卻不知道Nikon光刻機同樣享譽全球。
ASML有一個非常奇特的規(guī)定，那就是只有投資ASML，才能夠獲得優(yōu)先供貨權(quán)，意思就是要求自己的客戶要先投資自己才行。這樣奇特的合作模式使得ASML獲得了大量的資金，包括英特爾、三星、海力士都在ASML中有相當可觀的股份，其中英特爾投資的金額十分驚人，高達25.13億歐元。
日前韓媒報道稱，ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機，與現(xiàn)有的光刻機相比，二代EUV光刻機最大的變化就是High NA(高數(shù)值孔徑)透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%，達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
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