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光學(xué)元件

中科院蘇州醫(yī)工所獲國(guó)家經(jīng)費(fèi)研制50納米超分辨顯微鏡

星之球激光 來(lái)源:光電論壇2014-04-03 我要評(píng)論(0 )   

當(dāng)今世界,最頂尖的共聚焦顯微鏡觀察到的物體大小在50納米左右,而國(guó)內(nèi)目前的技術(shù)只能達(dá)到200納米至300納米之間。不過,這種被歐美壟斷的高精尖技術(shù)壁壘有望在蘇州被打...

     當(dāng)今世界,最頂尖的共聚焦顯微鏡觀察到的物體大小在50納米左右,而國(guó)內(nèi)目前的技術(shù)只能達(dá)到200納米至300納米之間。不過,這種被歐美壟斷的高精尖技術(shù)壁壘有望在蘇州被打破,記者近日從中國(guó)科學(xué)院蘇州醫(yī)工所獲悉,該所正在研制“超分辨顯微光學(xué)核心部件及系統(tǒng)研制”項(xiàng)目,未來(lái)3到5年內(nèi),將推出分辨率為50納米的超分辨顯微鏡,填補(bǔ)該技術(shù)的國(guó)內(nèi)空白。該項(xiàng)目還成功獲批“國(guó)家重大儀器專項(xiàng)”,將拿到國(guó)家專項(xiàng)研究經(jīng)費(fèi)1.7億元。

  長(zhǎng)期以來(lái),我國(guó)缺乏高端顯微光學(xué)系統(tǒng)及其關(guān)鍵部件的自主研發(fā)與創(chuàng)新能力,這嚴(yán)重制約了我國(guó)的重大科學(xué)發(fā)現(xiàn)和技術(shù)創(chuàng)新,已經(jīng)成為我國(guó)前沿科學(xué)研究和科學(xué)儀器行業(yè)發(fā)展的瓶頸。鑒于國(guó)內(nèi)該行業(yè)的現(xiàn)狀,2010年,蘇州醫(yī)工所瞄準(zhǔn)國(guó)家重大戰(zhàn)略需求,啟動(dòng)了激光掃描共聚焦顯微鏡的研制專項(xiàng),僅用兩年多時(shí)間,現(xiàn)已完成了激光掃描共聚焦顯微鏡樣機(jī)的研制。在此基礎(chǔ)上,蘇州醫(yī)工所又成功申報(bào)國(guó)家重大儀器專項(xiàng)——“超分辨顯微光學(xué)核心部件及系統(tǒng)研制”。據(jù)悉,該項(xiàng)目將依靠蘇州醫(yī)工所在光學(xué)設(shè)計(jì)、激光技術(shù)以及精密光學(xué)機(jī)械加工、檢測(cè)和裝調(diào)等方面的技術(shù)優(yōu)勢(shì),研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的超分辨顯微光學(xué)系統(tǒng),主要技術(shù)指標(biāo)為分辨率50納米、光譜檢測(cè)范圍400-800納米。

  “該項(xiàng)目一旦投產(chǎn)運(yùn)用,滿足我國(guó)前沿科學(xué)研究對(duì)先進(jìn)科學(xué)儀器的迫切需求。未來(lái)我們的產(chǎn)品售價(jià)將比進(jìn)口儀器便宜一半以上,這將大大降低醫(yī)療等相關(guān)行業(yè)的成本。”蘇州醫(yī)工所所長(zhǎng)、國(guó)家“973”項(xiàng)目首席科學(xué)家唐玉國(guó)表示。目前,國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的共聚焦顯微鏡也只能看到細(xì)胞,若能將分辨率推進(jìn)到50納米,便可清晰地看到細(xì)胞的活體結(jié)構(gòu)、細(xì)胞內(nèi)部的變化及其運(yùn)動(dòng)狀態(tài)。打個(gè)比方來(lái)說,可以大約觀察到一根頭發(fā)絲千分之一的細(xì)胞內(nèi)部的活體運(yùn)動(dòng)。

    鑒于國(guó)內(nèi)該行業(yè)的現(xiàn)狀,2010年,蘇州醫(yī)工所瞄準(zhǔn)國(guó)家重大戰(zhàn)略需求,啟動(dòng)了激光掃描共聚焦顯微鏡的研制專項(xiàng),僅用兩年多時(shí)間,現(xiàn)已完成了激光掃描共聚焦顯微鏡樣機(jī)的研制。在此基礎(chǔ)上,蘇州醫(yī)工所又成功申報(bào)國(guó)家重大儀器專項(xiàng)——“超分辨顯微光學(xué)核心部件及系統(tǒng)研制”。據(jù)悉,該項(xiàng)目將依靠蘇州醫(yī)工所在光學(xué)設(shè)計(jì)、激光技術(shù)以及精密光學(xué)機(jī)械加工、檢測(cè)和裝調(diào)等方面的技術(shù)優(yōu)勢(shì),研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的超分辨顯微光學(xué)系統(tǒng),主要技術(shù)指標(biāo)為分辨率50納米、光譜檢測(cè)范圍400-800納米。

 

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